Neues aus Little-Deutschland

1973 Multi-ampere duopigatron ion source
US 3740554 A

Inhalt: Erzeugung eines Ionenstrahls mit hoher Ionendichte

A duoplasmatron ion source is modified to provide a large plasma surface with a uniform density at a target cathode.
The target cathode and the acceleration and deceleration electrodes are gridded or multi-apertured and are spaced in close proximity each to the others with the apertures being in alignment.
With such an arrangement, it is possible to extract multi-ampere bright ion beams at energies of tens of KeV.
Conversion of the ion beam to a neutral particle beam can be readily accomplished by addition of a gas cell.
Von: Morgan O, Atomic Energy Commission

2. Referenz zu Tabellen Der Elektronen Ionenphysik and Ubergikroskopie by M. Von Ardenne, (VEB Deutscher Verlag der Wissenschaften, Berlin, 1956)
Partikel auf Van De Graaff Generator
1967 Mikrowellen-Plasma Ionenquelle Hitachi
1973 Hochleistungs Ionenquelle
2007 Flüssigmetall Ionenquelle zur Erzeugung von Lithium Ionenstrahlen Dreebit
Ionenquelle mit lasererzeugtem Plasma